Page 42 - 電路板季刊第112期
P. 42

40  專業技術      化學銅面對的奈米空泡考驗


            3.  目前主要化銅藥水供應商,幾乎都會添加微量鎳做為降低應力添加劑,因為可以抑
               制奈米微泡形成(多數情況,空洞平均尺寸低於傳統FIB/SEM工具的檢測極限,即直
               徑小於10奈米)。

            4.  一般銅面上的化學銅成長量與樹脂區比都相對較低,常見厚度約100-250nm間,如
               圖8.所示。共析Ni可以降低奈米微泡形成與應力。




























































                                 圖8、常見的Ni原子共析百分比約為0.3-0.5%
            5.  盲孔結合強度重點仍是關注銅層內的缺陷或空泡為主,文獻提出的模型包括底銅介
               面、化學銅內、閃鍍填孔介面。如圖9.所示。細節詳閱參考資料3。
   37   38   39   40   41   42   43   44   45   46   47