Page 58 - 電路板季刊第112期
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56  專業技術      毫米波天線之老化影響評估


            熱時效的測試條件為在一大氣壓及等溫                            透過VNA (型號:Anritsu M7838E)與
            (150 °C)下,進行退火處理,時間分別為                       無反射室(型號:BWant MW5)進行實際
            0 h (initial)、24 h、及48 h。其中,退火               量測。經由上述分析,可完整的評估銅
            溫度(150 °C)係以國際汽車電子協會所制                       線路老化對微帶天線性能的實際影響,
            定之車用被動元件標準(AEC-Q200 [20])                    並透過實際量測驗證HFSS模擬結果的
            中,其熱循環溫度(Grade 0: -50–150                    準確性。
            °C)的上限來作為評估。                                 四、熱時效後銅線路老化情形

                                                         4.1 X射線光電子能譜儀(XPS)
                                                              圖2呈現微帶天線在退火處理0–48
                                                         h後的表面情形,可明顯看出裸銅線在退
                                                         火處理後出現異色狀況。圖3顯示微帶天
                                                         線於150  °C退火(a) 24 h與(b) 48 h後之
                                                         XPS縱深分析結果。其中,XPS分析直
                                                         徑為400 µm。XPS分析顯示,退火24 h
                                                         後(圖3a)銅線路表面區域(< 200 nm)確實
                                                         已發生明顯的氧化現象。此時,表面銅
                                                         及氧原子濃度分別約為58.5–71.1 at.%

                                                         及29.0–41.5 at.%,該比例符合Cu O
                                                                                               2
            圖2、 微帶天線(裸銅線)於150  °C退火0  h                  之化學計量。當退火時間延長至48 h後
                  (initial)、24 h、及48 h之表面樣貌              (圖3b),氧化層(65.2–75.6 at.% Cu;
                  。本圖引用自文獻[17]。                          24.4–34.8 at.% O)厚度已超過1000

                 在 退 火 處 理 0–48 h 後 , 接 著 利              nm。換言之,隨退火時間增長,銅線路
            用X射線光電子能譜儀(XPS;型號:                           的氧化情形將越發嚴重。
            Thermo VG-Scientific Sigma Probe)                 圖4顯示微帶天線於150  °C退火(a)

            與穿透式電子顯微鏡 ( TEM ;型號:                         24  h與(b)  48  h後的Cu  2p與O  1s  XPS
            JEOL  JEM2100)分析銅線路氧化物組                      能譜。由於樣品表面的電荷累積會影響
            成與顯微結構。TEM薄膜樣品係由聚焦                           量測結果的準確性[21],因此XPS分析需
            離子束(FIB;型號:FEI Versa 3D)所                    進行能量校正。本研究以碳的特徵峰(C
            製備。此外,亦利用TEM能量色散光譜                           1s)作為校正基準(284.6 eV)。由Cu 2p
            儀(TEM-EDS)來分析氧化層的元素分佈                        能譜可知,在933.5  eV與953.3  eV處出
            情形。長時間等溫退火對介電特性的影                            現明顯特徵峰,其分別對應Cu 2p 與Cu
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            響,透過向量網路分析儀(VNA;型號:                          2p 軌域之束縛能(binding energy)。此
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            Anritsu M7838A)及放置介電材的開放                     外,在Cu 2p能譜中,未觀察到明顯衛星
            式共振器(iProphet),在室溫下量測其                       峰(satellite peak)結構,顯示表面銅以
            介電常數(Dk)與耗散因子(Df)。隨後,                        Cu 為主,未形成明顯Cu 。另外,在束
                                                            +
                                                                                  2+
            將所得之材料參數代入3D電磁模擬軟體                           縛能530.2  eV處可觀察到另一特徵峰,
            (ANSYS-HFSS;版本:2024R1),以                     其對應晶格氧(O )之O  1s特徵峰。上述
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            模擬天線性能(S 、G、及θ)。最後,則                         分析說明了,裸銅線在150  °C氧化後,
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