Page 55 - 電路板季刊第109期

電路板季刊 2025.10 專業技術 53

(c) (d)

(e) (f)

圖一、典型的電漿裝置示意圖：(a)電感耦合式低壓電漿、(b)電容耦合式低壓電漿、(c)
噴流式大氣電漿、(d)介電層放電式大氣電漿、(e)陣列式微電漿、與(f)水下微電漿。
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在電漿製程中，光學發射光譜（Optical Emission Spectrum, OES）是監控製程
狀態的關鍵工具。當電漿中的活性粒子被激發時，會釋放出具特定波長的電磁輻射，
形成獨特的「光譜指紋」。透過光譜分析儀對這些光譜進行精準分析，我們能將製程
中的動態資訊，轉化為可量化、可追蹤的數據。

電漿光譜之所以重要，在於它包含了以下關鍵資訊：

氣體組成與濃度：不同的氣體分子與原子，在電漿中被激發時會發出特定波長的
光線。例如，氬氣在可見光與紅外光區域有數十條特徵譜線。藉由分析這些譜線的強
度與相對比例，我們能即時監控製程是否穩定。